一、设备用途：
各种单层膜、多层膜、掺杂膜系。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种有机材料、金属材料、无机材料的单层或多层膜，适用于制备金属单质膜、半导体膜、有机功能膜等。主要应用于OLED、OPV、钙钛矿等薄膜制备
二、设备参数：
|
规格型号 |
SYCY-ZF01A |
|
结构形式 |
真空室采用柱型箱体 |
|
真空室 |
∮350mm×400mm |
|
真空系统配置 |
复合分子泵+机械泵 |
|
极限压力 |
5.0×10-5Pa（经烘烤除气后）； |
|
恢复真空时间 |
45分钟可达到8.0×10-4Pa |
|
样品台 |
样片尺寸：可放置3英寸基片 样片加热最高温度：800℃±1℃ 样片旋转：转速0～30转/分 样片与蒸发源间距：250～300mm可调 |
|
金属蒸发源 |
加热温度（约）：室温-1500℃ |
|
蒸发源模式：双水冷电极柱+蒸发舟 |
|
|
安装位置：腔体底部均匀分布 |
|
|
蒸发源数量：2-4组 |
|
|
蒸发源挡板开启关闭方式：手动、气动、电动 （任选其一） |
|
|
冷却方式：水冷 |
|
|
金属蒸发电源 |
功率：1000W-2000W |
|
电压：5V |
|
|
电流：200A-300A |
|
|
电源数量：2-4台 |
|
|
有机蒸发源 |
加热温度：室温-600℃ |
|
蒸发模式：束源炉+石英坩埚 |
|
|
安装位置：腔体底部均匀分布 |
|
|
蒸发源数量：4-8组 |
|
|
控温精度：±1℃ |
|
|
蒸发源挡板开启关闭方式：手动、气动、电动 （任选其一） |
|
|
有机蒸发电源 |
功率：500W-1000W |
|
电压：24V |
|
|
电流：20A-40A |
|
|
电源数量：2-4台 |
|
|
石英晶振膜厚控制仪 |
膜厚显示范围：0~99μ9999Å |
|
膜厚测量分辨率:0.1Å/s |
|
|
膜厚探头数量：2-6只 |
|
|
水冷却循环系统 |
制冷量：0.85KW |
|
烘烤照明系统 |
烘烤温度：室温-150℃ |
|
烘烤方式：卤素灯 |
|
|
整机控制方式 （控制方式为选配） |
手动控制 |
|
半自动控制 |
|
|
全自动化控制 |
